Ένα νέο ρεκόρ αποδοτικότητας για φωτοβολταϊκά λεπτού υμενίου (thin film) πέτυχαν στο Ινστιτούτο Μικρομηχανικής της Πολυτεχνικής Σχολής της Λωζάννης στην Ελβετία.
Οι Ελβετοί πέτυχαν απόδοση 10,7%για μια φωτοβολταϊκή κυψέλη μονής επίστρωσης μικροκρυσταλλικού πυριτίου. Το προηγούμενο ρεκόρ κράταγε από το 1998 η ιαπωνική εταιρεία Kaneka Corporation.

Την επίδοση πιστοποίησε τοΙνστιτούτο Ηλιακών Ενεργειακών Συστημάτων Φράουνχόφερ και επιτεύχθηκε σε φωτοβολταϊκό ενεργό υλικό επιφάνειας μικρότερης των δύο μικρομέτρων.

Το εργαστήριο που πέτυχε την επίδοση πρωτοπορεί στη χρήση μικροκρυσταλλικού πυριτίου για την παραγωγή εύκαμπτων φωτοβολταϊκών thin film.

Παρότι οι συμβατικές γκοφρέτες πυριτίου πετυχαίνουν αποδόσεις της τάξης του 15-20% με πάχος 180 μικρομέτρων, το λεπτό φωτοβολταϊκό των Ελβετών πέτυχε βαθμό αποδοτικότητας 10,7% με πάχος πυριτίου 1,8 μικρομέτρων, 100 φορές μικρότερο από τις συμβατικές τεχνολογίες, και θερμοκρασία παραγωγής της κυψέλης που δεν ξεπέρασε τους 200 βαθμούς Κελσίου.

Η εξέλιξη αυτή ανοίγει νέες δυνατότητες στα φωτοβολταϊκά thin film καθώς τουλάχιστον μια επίστρωση μικροκρυσταλλικού πυριτίου συνδυάζεται με άμορφο πυρίτιο προκειμένου να γίνει εκμετάλλευση μεγαλύτερου εύρους του ηλιακού φάσματος.

ΠΗΓΗ: econews.gr